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第二十六章 研究所的邀请（第3页）

龙国集成电路研究所。

平时这里很安静，但今天这里变得很热闹。

本次14纳米光刻机研发任务就是由国家牵头。

几大配套商家与研究所共同研制。

参会人员都是光刻机各个零部件的主要科研人员和项目负责人。

苏晨下了飞机。

就和林来坐车来到了这里。

虽然距离会议开始还有一段时间。

但是里边的座位基本上都快满了。

林老是这个项目的总设计师。

他一进来就被众人围住了。

苏晨自己找到一个后面的位置坐了下来。

他刚坐下。

前面几个人的谈话声音就传了过来。

“唉，你们说这次14纳米光刻机有搞头吗？”

“唉，其实，我看悬。”

“咱们刚弄完90纳米制程没多久，就要做14纳米制程的。”

“跳跃太大了，中间还隔着一代光刻机呢。”

有人说道。

“其实，我看也悬。”

“唉，兄弟，你是哪个单位的？”

“我是长光所的。”

“奥我知道，你们是做光刻机曝光光学系统的是吗？”

“对。”

“说一下，能说一下你们最新的进展吗？”

“我们单位na0.75级的曝光系统刚通过验收，na1.35级的正在路上。”

“但是跟国外的差距还是很大。”

“这套系统根本就不适用与14纳米的光刻机。”

说完，这个人叹了一口气。

“唉，都一样，我是华卓精科的，负责光刻机双工件台系统。”

“华卓精科啊，我听说你们刚做出来干式双工件台系统。”

“对，没错，但是干式的精度不够，浸没式的还在开发当中。”

“但即便是浸没式开发成功，那跟西方的差距也是很大。”

“我问了各个单位的负责人。”